概要

本装置は、“光加熱式サーモリフレクタンス法”により、ナノ薄膜とミクロン領域の「熱浸透率」を、非接触かつ高分解能で測定する装置です。
複数試料を高速（1点10秒）で連続測定することが可能です。

特長

■試料の熱浸透率を、点・線・面で測定
■ミクロンオーダーでの熱物性値の分布も測定可能
■レーザを用いた非接触かつ高分解能の熱浸透率測定
■検出光スポット径3μmにより、高分解能で微小領域の測定が可能
■深さの範囲を変えての測定が可能 ⇒ 薄膜・多層膜からバルク材まで
■基板上の試料も測定可能
■薄膜下のクラック・ボイド・剥離の検出が可能

主な仕様

■測定対象：　熱浸透率、（体積熱容量）、（熱伝導率）
■測定モード：　熱物性分布測定（1次元・2次元・1点）
■検出光スポット径：　φ3μm
■1点の測定標準時間：　10[sec]
■測定対象薄膜：　厚さ 数百[nm]～数十[μm]
■繰り返し精度：　Pyrex®、シリコンの熱浸透率で±10％未満
■使用環境温度：　24[℃]±1[℃]
■ステージ移動距離：　20×20×4[mm]
■加熱用レーザ：　半導体レーザ 波長808[nm]
■検出用レーザ：　半導体レーザ 波長633[nm]
■電源：　AC100[V]　1.5[kVA]
■レーザ安全：　CLASS Ⅰ LASER PRODUCT、IEC/EN 60825-1:2007

その他

＜ご利用条件＞

■測定対象：　固体材料
■試料外形：　不定形でも可
■表面形状：　鏡面研磨が必要
■試料処理：　Mo薄膜の成膜が必要
■試料サイズ：　最大＿30×30×3[mm]

※受託測定を随時受付中