製品情報

R to R エキシマUV照射装置 

製品名 R to R エキシマUV照射装置

概要

本製品は、エキシマランプを使用し表面改質、洗浄、親水化、接着/密着性向上、表面活性
結晶化、硬化処理を行う装置です。エムディエキシマランプは照射面に電極を持たない構造で、
光をさえぎり、透過や反射の損失が少なく照射効率が高いのが特徴です。

特長

1) 高いエネルギー
2) 単一波長、高効率
   放射が一つの波長に集中し、必要な光以外がほとんど放射されないので効率が高い
3) 低温処理
   余分な光が放射されないのでワークの温度を低く保つことが出来る
4) 瞬時点灯・消灯が可能
   瞬時の点灯が可能である。実際の点灯時間が短く、長寿命化が可能。

主な仕様

・波長 172nm
・有効長 330mm〜1600mm
・ランプ数 1灯〜 任意の本数でカスタム設計可
・照度均一性 ±10%以内
・搬送機構 駆動なしフリーロール
・ユーティリティ AC200V 三相  50/60Hz
・冷却水 ランプ1灯あたり 約2リットル/min
・窒素 N2 ランプ1灯あたり 約20リットル/min N2なしでも使用可
・排気 50φ

その他

FPD製造—TFTアレイ工程/カラーフィルター工程/フォトマスク洗浄等
半導体製造(洗浄・キュア)—Low-Kキュア/洗浄/光CVD等
レジストアッシング及びレジスト残渣のアッシング
フィルム基板・プラスチック基板の洗浄/酸化膜の生成
金属表面の洗浄、改質
HDD洗浄
繊維の改質
有機ELの仕事関数アップ
ガラス・フィルムの張り合わせ
ゴム・プラスチック等さまざまな素材の表面改質(密着性・接着性の向上)
ポリシラザン等を利用した、ガスバリアフィルム及びハードコート膜の大気圧下での生成